arXiv ID:
2603.15584
arXiv 提交日期: 2026-03-16
用于光刻掩模极紫外电磁波衍射模拟的物理信息神经网络系统 / Physics-Informed Neural Systems for the Simulation of EUV Electromagnetic Wave Diffraction from a Lithography Mask
1️⃣ 一句话总结
这篇论文提出了一种结合物理知识和神经网络的新方法,能快速且准确地模拟极紫外光刻掩模的电磁波衍射过程,显著提升了下一代芯片制造中掩模设计与优化的效率。